話你知/沒有EUV光刻機，如何國產7納米晶片？
荷蘭阿斯麥（ASML）目前在售的深紫外線（DUV）光刻機中，有4種高端的浸潤式光刻機，採用多重曝光技術，最高能實現7納米晶片工藝。而通過多重曝光會導致良率降低、工時效率低、成本增加等問題。所以如果光刻機精度跟得上的情況下，一般不會採用多次曝光的技術，因為效率降低，同時良率也會顯著下滑，最終導致成本可能成倍數上漲，非常不划算的。
不過要進入5納米，就必須使用極紫外線（EUV）光刻機，因為DUV光刻機精度有限，不能無限的多次曝光。目前DUV光刻技術最多4次曝光，且只能達到7納米。
