井水集/十年磨一劍
近日多家外媒報道，中國已成功小規模量產首款自主研發的「浸潤式深紫外光（DUV）光刻機」，打破了西方巨頭的長期壟斷。消息一經傳出，立即引發全球關注，甚至被認為間接導致了近期全球晶片股的下跌潮。雖然這次晶片股暴跌，中國產光刻機問世並不是唯一誘因，但也說明半導體供應鏈中國「自主化」與「去美化」的齒輪已經加速轉動，中國科技發展不怕封鎖，也封鎖不住。
光刻機長期被視為半導體產業鏈最難攻克的堡壘，市場長期被荷蘭巨頭ASML壟斷。在美、荷聯手限制向中國出口及維修先進DUV的背景下，能製造7納米以上製程晶片的國產DUV開始量產並交付，意味着美國的「卡脖子」封鎖線被實質性打破。這不免令市場擔心外資巨頭的壟斷「護城河」會被重新定價，並進一步加劇「平價晶片產能過剩」的恐慌，引發機構投資者的獲利回吐。
當然也要理性地看到，目前國產DUV仍處於小規模早期量產階段，整體性能與ASML頂尖設備相比仍落後數代，尚需在產線進行長時間的驗證。本輪晶片股及光刻設備股價下跌，更像是對過去幾年估值過高的半導體板塊進行了一次恐慌性修正，是多重因素導致的市場「應激反應」。
儘管如此，國產自主研發DUV的突破，里程碑意義仍不容小覷。這說明中國堅持科技自立自強、擺脫對美西方依賴的趨勢已經確立。依託十四億人的巨大市場、強大的製造能力以及全球最完整的產業鏈，中國產平價晶片的產能爆發並不遙遠。
從自主研發光刻機的重大突破，到國產大模型不斷驚艷全球，歷史無數次證明，中國的科技發展堅持開放共贏，但也不怕孤立封鎖。極限施壓嚇不倒中國人，反而激發了國人的自立自強與創造精神。國家創科不斷實現突破，這為香港鞏固提升國際金融、創科等中心地位，提供了更堅強支撐。同樣地，以五年規劃為抓手，善用自身優勢做好橋樑角色，香港定能為強國建設貢獻重要力量。
